「百识电子」宣布已具备8英寸SiC外延晶片量产能力

NE时代半导体 更新于2024-04-25 09:31:33

据投中资本官微消息,近期,南京百识电子科技有限公司(以下简称“百识电子”)宣布正式具备国产8英寸碳化硅外延晶片量产能力

百识电子所生产的8英寸碳化硅外延晶片的质量达到国际先进水平,即厚度不均匀性小于1.5%,浓度不均匀性小于4%,3mm*3mm管芯良率达到99%以上。该技术突破标志着百识电子8英寸碳化硅外延技术储备成熟,进一步推进了碳化硅外延材料的国产化进程。

百识电子成立于2019年,由多名拥有数十年第三代半导体外延经验的资深专家联合创办,核心团队具备外延工艺开发、良率保障、设备改良等全栈能力。

产能方面,百识电子首条产线位于南京市浦口区,于2021年投产,当前年产能达5万片,客户多为全球巨头及国内龙头。此外,百识电子计划近期在长三角落地二期产线,产能规划28万片/年,打造全国最领先的车规级三代半外延片制造工厂。目前百识电子已在全部产品技术指标上达到世界领先水平。

融资方面,2022年3月,百识电宣布超募完成A轮融资,融资总额过3亿元人民币。本轮融资由杭实资管领投,毅达资本、华映资本、阿晨科技、科泓投资、涌铧投资、GRC富华资本、福熙投资等知名投资方跟投,老股东亚昌投资、金浦投资继续加码。融资主要将用于扩产及生产设备购入。此外,今年3月,百识电子完成A+轮融资,多家知名机构参投。

百识电子凭借团队雄厚量产经验及高质量制造能力,提供六英寸及八英寸外延片, 以满足新时代功率器件市场需求。除标准规格外延片,百识电子可针对特殊应用市场需求,提供客制化规格外延服务及器件开发所需的关键制程。

碳化硅外延层的厚度、浓度与表面缺陷的数量会影响器件电气特性,导致碳化硅器件良率有所损失。目前一般外延技术只能控制表面尺寸较大(如三角缺陷、胡萝卜缺陷,直线缺陷与彗星缺陷等)的致命(killer)缺陷,密度大约1/cm2,表面微坑洞(micro-pits)的数量高达每片5,000颗以上。

百识电子以独有的外延技术可将表面缺陷数量有效控制在密度小于0.4/cm2以下,表面微坑洞(micro-pits)< 1,000个/wafer,同时具备有较低的致命缺陷与表面微坑洞的优势。2023年百识外延工艺和技术水平持续精进,3,300V碳化硅外延片实现高良率高质量生产,产品厚度均匀性1.18%,浓度均匀性1.32%,并稳定出货全球轨交头部客户。超高耐压(6,500V及以上)外延技术持续突破,缺陷控制已达国际先进水平。

本文来源:投中资本、百识电子

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